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半导体制造中光刻胶旋涂工艺的CFD数值模拟及参数优化
半导体制造中光刻胶旋涂工艺的CFD数值模拟及参数优化
CFD Numerical Simulation and Parameter Optimization of Photoresist Spin-Coating Process in Semiconductor Manufacturing
- 电子技术与软件工程 2026年15卷第3期 页码：209-214
DOI： 10.12263/ES.2026.03.030
修回：2026-06-17 ，
录用：2026-06-17
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